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        原子沉積系統ALD

        簡要描述:*原子沉積系統ALD,源于國外先進的技術。是一種能以原子級精度將薄膜覆蓋沉積到各種基底上的方法??梢愿鶕蛻舨挥玫膽眠x擇不同的配置,價格優,性能好。

        • 產品型號:IPS
        • 廠商性質:生產廠家
        • 更新時間:2021-03-30
        • 訪  問  量:695

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        原子沉積系統ALD

        標準型(Standard )設備

        價格低、質量高、可任選附件進行搭配

        結構簡單,操作方便,后期維護簡單易行

        用途廣,適合各種基底材料

        原子沉積系統ALD ——擴展型(Flexivol)設備

        腔室體積可根據用戶樣品的尺寸靈活調節,同一腔室可通過簡單的調節適用于不同厚度的樣品

        增多前驅體源入口數目,避免腔室體積增大對前驅體化學源氣氛分布的影響

        ALD原子層沉積系統——高度定制化(Non-Standard)設備

        為工業客戶提供薄膜沉積方案

        放大基于標準研究型設備檢驗的相同技術

        根據客戶的特殊需求,加工定制,滿足特殊應用及大規模的生產需要

        研發(R&D)服務

        開發新的薄膜沉積方案

        診斷、改進現有ALD的工藝

        為潛在的客戶做覆膜演示

        薄膜沉積工藝咨詢

        原子層沉積系統ALD技術參數

        不銹鋼材質腔室,根據客戶樣品尺寸有不同的腔室直徑(D < 200 mm, D = 200 mm, D > 200 mm)和高度(H = 20 mm, H = 50 mm)可選;前驅體進樣系統標配四路(包含冷和熱兩種前軀體),可配至八路

        前驅體進樣系統配有快速氣動閥門

        多段溫度控制

        前驅體溫控0-200 °C,精度1 °C

        腔室溫控0-300 °C ,精度1 °C

        進出腔室管路溫控0-150 °C ,精度1 °C

        基本壓強 10^−1/10^−3 mbar

        設備尺寸 1000x600x1000 mm

        觸控控制系統

        系統當前狀態信息顯示:氣流速度、溫度、壓力和閥門開度等

        工藝監控:溫度和壓力等

        偏差報警和安全鎖

        菜單操作,實時監控

        可增配選項

        等離子體發生器    借助等離子化的氣態原子替代水作為氧化物來增強ALD性能

        臭氧發生器         提供強氧化劑,增大ALD生長的前驅體選擇范圍

        石英晶體微天平    在線監測薄膜沉積的厚度

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